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PRODUCT PORTFOLIO

多品牌设备与材料统一由宇豪对接

国内外品牌资源,按应用条件组织设备、材料与关键部件。

产品目录

  1. 01工艺设备
  2. 02量测与检测
  3. 03生产辅助
  4. 04材料与耗材
  5. 05厂务与设备子系统

SUPPLY MODES

五种供给方式覆盖设备全周期

  • 新设备

    工艺、检测设备与功能模块,协同选型与安装导入。

  • 再制造

    在役量测设备的翻新、升级与维保支持。

  • 维修翻新

    电源、等离子源等关键子系统的修复与替代。

  • 耗材供应

    抛光、清洗与精密加工耗材,样品验证后持续供应。

  • 项目寻源

    物料流转与厂务配套,按项目条件寻找资源。

01 / PROCESS EQUIPMENT

工艺设备

面向前道与特色工艺,匹配制程条件。

工艺设备
产品方向覆盖范围应用供给方式
光刻与图形转移涂胶显影 · 刻蚀 · 去胶前道、化合物半导体与封装工艺
  • 新设备
薄膜沉积PVD · CVD · ALD金属化、介质与功能膜层
  • 新设备
清洗与平坦化湿法清洗 · 表面处理 · CMP晶圆清洗与衬底表面加工
  • 新设备
02 / METROLOGY & INSPECTION

量测与检测

覆盖晶圆制程量测与封装检测。

量测与检测
产品方向覆盖范围应用供给方式
晶圆缺陷与尺寸AOI · 2D / 3D 量测 · 封装结构检测RDL、Bump 与 TSV 等结构
  • 新设备
前道量测套刻 · 膜厚 · 关键尺寸 · 缺陷与颗粒前道制程质量监控
  • 再制造
封装可靠性推拉力测试 · 超声扫描 · X 射线 · 影像测量键合强度、分层与空洞评估
  • 新设备
03 / MANUFACTURING SUPPORT

生产辅助

连接设备状态与物料流转,适配产线现场条件。

生产辅助
产品方向覆盖范围应用供给方式
设备端监测与控制传感监测 · 前端模块 · 温控模组晶圆取放与设备前端模块
  • 新设备
物料流转晶圆分拣 · 传送储存 · 载具检测按接口、空间与节拍匹配
  • 项目寻源
04 / MATERIALS & CONSUMABLES

材料与耗材

关注加工效果与材料兼容性。

材料与耗材
产品方向覆盖范围应用供给方式
CMP 材料抛光液 · 抛光垫 · 清洗液衬底抛光与后清洗
  • 耗材供应
精密加工耗材划片刀 · 减薄砂轮 · 切割砂轮晶圆减薄、切割与封装加工
  • 耗材供应
05 / FACILITY & SUBSYSTEMS

厂务与设备子系统

保障设备与厂务系统长期稳定运行。

厂务与设备子系统
产品方向覆盖范围应用供给方式
真空与尾气干式真空泵 · 泵阀部件 · 尾气处理工艺腔体真空与排气处理
  • 新设备
  • 维修翻新
关键子系统电源与等离子模块 · 静电吸盘等关键部件按主机型号与接口确认
  • 维修翻新
厂务配套水 · 供配电 · 冷却换热 · 节能产线新建与改造配套
  • 项目寻源

品牌、型号与报价,需求确认后提供

说明应用、工艺与数量,我们匹配合适的产品与配置。

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